輝光放電質譜（GDMS）是利用輝光放電源作為離子源的一種無機質譜方法。GDMS采用固體進樣，樣品準備過程簡單、分析速度快、基體效應小、線性范圍寬，是痕量分析的一種重要分析手段，在國外已經成為高純金屬和半導體分析的行業標準方法。GDMS還可進行深度分析，選擇合適的放電條件，可以在樣品表面獲得平底坑，深度分辨率可以滿足對微米量級的層狀樣品進行測量

●輝光放電質譜儀 

電感耦合等離子體發射光譜/質譜（ICP-OES/MS）是利用電感耦合等離子體（ICP）作為激發源/離子源的一種元素分析技術。固體樣品需經過一定的前處理步驟轉化為酸性水溶液。樣品溶液經進樣系統引入到ICP中，待測元素被原子化、熱激發/離子化，經分光系統（ICP-OES）或質譜系統（ICP-MS）后被檢測器檢測。ICP-OES/MS分析技術主要用于準確測定材料中某些元素（C、H、O、N和鹵素除外）的含量，定量范圍為ng/kg到wt%